众所周知，在芯片制造过程中，光刻机是最重要的设备类型。在芯片制造的数百个过程中，光刻机的成本占20％，光刻所占的工时超过30％。可以说这很重要。 7nm及以下芯片的生产需要EUV光刻机。对于7nm以上的光刻机，主要使用DUV光刻机。目前，世界上只有一家ASML制造商可以生产EUV光刻机。因此，只要是要达到7nm及以下工艺的芯片制造商，就必须找到ASML来购买EUV光刻机。如果您无法购买，则无法实现7nm。 EUV光刻机的生产能力有限，因此台积电，三星和英特尔必须依靠抢购。谁可以购买更多的光刻机，谁在购买7纳米及以下工艺，谁就有更大的生产能力。到2020年，ASML的出货量将约为35台，到2021年将达到45-50台。截至2020年底，ASML已总共出货了约100台EUV光刻机。在这100台EUV光刻机中，台积电约占60台，占60％，其余所有被英特尔和三星夺走。 2018年，中芯国际与ASML签署了EUV光刻机购买协议，以1.2亿美元的价格购买一台光刻机，但由于尚未获得出口许可证，因此至今尚未交付。由于美国已将中芯国际（SMIC）列入实物清单，因此10纳米及以下的设备进口就更加受阻。据推测，购买这种EUV光刻机甚至更加困难。根据摩尔定律，芯片制造工艺继续缩小，并且EUV光刻技术已经成为关键。目前，台积电和三星的5nm工艺已经量产，而英特尔今年也将达到7nm。 GF和联电已经放弃了10nm及以下工艺，只有中芯国际仍在努力向10nm以下工艺发展，EUV光刻机是关键，因此如果中国芯要取得突破，它将不会停留在10nm以下及以下流程。对于脖子，您必须开发自己的光刻机。